		반도체 공정기반 나노메디컬 기술상용화 지원 사업

지 원 신 청 서
기 업 명						대 표 자
주소(대전시)
설립연월일			기업형태			□ 법인 □ 개인
사업자등록번호			고용현황 (지원신청일 기준)			고용인력			연구개발인력
업태/업종
기술분야	정보/전자/통신, 반도체/재료, 에너지/환경, 생명과학, 기계, 기타_____
산업분야	나노소자, 나노소재, 나노공정, 나노바이오, 나노측정, 기타______
주력제품
기업상장 여부	□ 거래소 □ 코스닥 □ 비상장				중소기업 여부			□ 해당 □ 비해당
					벤처기업 지정			□ 지정 □ 비지정
연도	2024년			2025년				2026년(예상)
매출현황(천원)
종업원수(명)
기업 R&D 역량
지식재산권 보유현황	□특허등록 ( 건) □ 실용신안 등록 ( 건)
사업신청분야	□ 기술지도 □ 시제품제작
실무책임자	성명					부서/직위
	전화					팩스
	핸드폰					e-mail
상기 내용과 같이 나노종합기술원 반도체 공정기반 나노메디컬 기술상용화 지원 사업을 신청합니다. 2026년 08월 일 대표자 : (인) 나노종합기술원장 귀하

사 업 계 획 서

제  목 : (연구개발 목표를 잘 나타낼 수 있도록 작성)

제품명 : (연구개발 대상물 또는 개발 결과물의 이름을 기재)

1. 신청 기업 소개 및 기업지원의 필요성 (2페이지 이내)

가. 신청기업 개요

○ 본 사업의 내용과 관련하여 신청기업의 사업이력과 사업 분야가 본 과제와 부합되는지가 이해되도록 기업 개요를 작성. 부지현황, 인력현황 등 각 기업의 사업화 역량이 충분히 설명되도록 자유 형식으로 표현

나. 신청기업의 보유기술 수준

○ 본 사업의 내용과 관련하여, 신청기업이 기 보유한 기술의 수준을 작성함

다. 선행 기술개발 현황 및 관련 제품 사업화 현황

○ 신청기업이 본 개발과 직접 관련하여 수행한 연구개발/제품개발/상용화 내용 및 관련제품 사업화 현황 등을 기재함

○ 최근 1년 이내 동일한 아이템으로 대전광역시에서 사업비를 지원받은 경우 지원받은 내용을 기재하고, 본 사업과의 차별성을 기술함

라. 장비/공정 이용, 기술지도, 시제품 제작 지원 필요성

○ 신청 기업이 해당 기술이나 제품의 개발에 있어서, 본 기업지원 사업을 통해서 진행해야 하는 이유를 기재함. (자체기술개발 대비 효과, 핵심 기술이나 장비 지원의 필요성, 전문가 참여 필요성 등을 기술

○ 신청 기업이 해당 기술이나 제품의 개발에 있어서, 특별히 중요하게 지원 받고자 하는 기술적 내용을 상세히 기술함 (지원이 필요한 핵심 기술 또는 핵심 공정 스펙 등 포함)

2. 연구개발의 목표 및 내용 (2페이지 이내)

가. 연구개발 최종 목표

○ 연구개발 하고자 하는 최종 목표를 기술 (기술적 목표나 개발 제품)

나. 연구개발 세부내용

○ 연구개발 하고자 하는 기술(또는 공정, 제품)의 수준, 성능, 품질 등을 가능한 정략적으로 기술

3. 연구개발 추진전략 및 추진방법 (2페이지 이내)

가. 연구개발 추진전략

○ 연구개발 목표 달성을 위한 추진 전략을 기술함 (기술개발 흐름도, 기관별 역할 구성도 등이 해당함)

나. 연구개발 추진방법

○ 연구개발 목표 달성과 문제점 해결을 위해 적용하고자 하는 연구개발 방법론 (접근방법)을 상세히 기술함

4. 연구개발 성과 사업화 추진계획 및 기대효과 (1페이지 이내)

가. 연구성과 사업화 추진계획

○ 연구개발 결과물(기술 또는 제품)을 신청기업이 어떻게 활용할 것인지를 기술함. (활용분야, 활용제품 등 기술함)

나. 기대효과

○ 본 연구개발의 성공적인 수행으로 인하여 기대되는 결과를 기술적 측면과 경제․산업적 측면으로 구분하여 간단명료하게 기술함

<기술적 측면>

○ 해당 기술의 향상, 다른 기술의 향상에의 파급효과 등을 기술함

<경제적 및 산업적 측면>

○ 해당 기술의 개발에 따른 경제적 효과로서 예상수익, 생산성 향상에 따른 비용절감, 수입대체, 수출기대, 해당기술의 시장성 등을 기술하고, 산업적 효과로서 산업발전에 영향을 줄 수 있는 사항을 서술함 (매출향상 효과, 고용창출 효과 포함)

5. 사업비 (1페이지 이내)

가. 기술개발 예상 비용 (기술지도, 시제품제작, 특허출원 등)

구 분	내 역		단 가 (천원)	수량 (개, 건)	금 액 (천원)	비고
NNFC보유 시설 이용	공정 및 분석	금속전극 패턴박막 형성 공정료	1,000	6 건	6,000
		전자현미경 분석료	1,000	5 건	5,000
	소 계
외부 시설 이용 및 재료/ 부품 구매	공정 및 분석	초고속 사출성형 공정료	3,000	2 건	6,000	A사
		E-beam Source (Ni) 재료구매	2,000	1 개	2,000	B사
	재료 및 부품	광학판별모듈 부품구매	3,000	1 개	3,000	C사
외부 시설 이용 등	외부 이용
	소 계
	총 액					예시 1.

** 기업 당 최대 지원 금액은 2.2천만원(기술지도, 시제품제작) 이하임.

** 외부시설이용 및 재료/부품 구매 비용은 최대 1.1천만원을 초과할 수 없음.

** NNFC 보유시설 이용료는 50% 할인율 적용되므로 지원 금액의 2배까지 정산 가능함.

(예시 1. : 외부시설이용 및 재료/부품 구매비 1.1천만원 책정 시, 잔액 1.1천만원 이용하여 2.2천만원에 해당하는 NNFC 보유시설 이용료 책정 가능함. (정산기준 총사업비: 3.3천만원))

(예시 2. : 외부시설이용 및 재료/부품 구매비 0원 책정 시, 잔액 2.2천만원 이용하여 4.4천만원에 해당하는 NNFC 보유시설 이용료 책정 가능함. (정산기준 총사업비: 4.4천만원))